Tag Archive

華為、多重露光による「5ナノ製造法」特許出願

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中国の知的財産担当の中国国家知識産権局は3月27日、中国通信機器大手の華為技術(ファーウェイ)が出願した複数の特許の内容を公開した。そのうちの1つは、最先端の極端紫外線(EUV)露光装置を使わなくても、5ナノメートル(n »

中国、23年のオランダからの半導体露光装置の輸入2.8倍に

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中国税関総署によると、2023年の中国の半導体露光装置の輸入額は前年比120.9%増の87億5,400万米ドル(約1兆2,970億円)だった。そのうちオランダからは183.8%増の72億3,000万米ドルを輸入しており、 »

オランダ政府、ASMLのリソグラフィー装置の一部の中国輸出許可を撤回=外電

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ASML、ハイパーNAリソグラフィー開発に着手 36年に0.2nmプロセス実現へ

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オランダの半導体製造装置大手、ASMLがすでにハイパーNAEUV(極端紫外線)リソグラフィー装置の開発を検討しているもようだ。 »

熙泰科技、シリーズAで10億元超調達 四川省に12インチOLED工場建設

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中国ディスプレイメーカーの安徽熙泰智能科技(安徽省蕪湖市)は6日、シリーズAで10億元(約201億円)超の資金調達を完了したと発表した。今回の資金調達は四川省天府新区に建設を進めている12インチシリコンベースのマイクロO »

ASMLの新EUV、TSMCとサムスンが導入か 26年に設置予想

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SMICが5ナノ半導体生産へ 華為の次世代プロセッサに対応

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米フィナンシャル・タイムズによると、中国の半導体最大手の中芯国際集成電路製造(SMIC)が、回線路幅5ナノメートル(nm)の半導体を製造する最先端工場を建設する計画を進めている。通信機器大手の華為技術(ファーウェイ)が設 »

ASML、輸出規制で24年は中国売上高最大15%影響も

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オランダの半導体製造装置大手、ASMLホールディングのロジャー・ダッセン最高財務責任者(COO)は、24日の業績発表会見で、オランダと米国が新たに発表した高性能の半導体製造装置の輸出禁止措置が発効すれば、2024年の中国 »

SKハイニックス、中国工場の技術改良計画 米の対中輸出規制に対応

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韓国半導体大手のSKハイニックスが、米国の対中国EUV(極端紫外線)露光装置輸出規制への対応策として、中国半導体工場の技術改良を準備しているもようだ。 »

TSMC、ASML製EUV露光装置10台の調達計画を棚上げ=台湾メディア

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台湾のメディアがこのほど、台湾の半導体受託製造大手である台湾積体電路製造(台積電・TSMC)がオランダの半導体製造装置メーカー、ASMLホールディングからEUV(極端紫外線)露光装置10台を購入する計画を棚上げしたと報じ »

ASML、中国へのハイエンドDUV輸出を撤回 米国の要請受け

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オランダの半導体露光装置大手、ASMLは1日、同社の先端深紫外(DUV)露光装置の輸出ライセンスの一部がオランダ政府から取り消されたと公式サイトで発表した。バイデン米政権の要請を受けた緊急の対応とみられる。 »

中国の蘭製リソグラフィー装置輸入額、11月は前年同月の11倍

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香港の英字紙『サウスチャイナモーニングポスト』の報道によると、中国が2023年11月にオランダから輸入した半導体露光(リソグラフィー)装置の総額は前年同月の11倍に急増した。 »

ASML初の2nm露光装置、インテルに正式納入

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ASML、数カ月後に2nm製造装置を発表 Intelが6台購入か=情報筋

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成熟プロセス生産能力シェア、27年は中国が39%に拡大

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ASMLとサムスン、韓国にEUV研究センター設立

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ASML、24年の対中事業は最大15%減予想 半導体規制強化受け

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華為がクアルコム製チップの調達停止へ、TSMCやASMLにも影響か

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中国の通信機器大手、華為技術(ファー ウェイ、広東省深セン市)が米半導体大手クアルコムからのチップ調達を停止するとの情報が業界内で注目を集めている。天風国際証券のアナリストが9月に明かした内容によると、華為は2024年か »

8月の中国半導体売上高2%増、オランダから先進設備輸入

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「2ナノ半導体」量産競争幕開け、TSMC・サムスン・ラピダス始動

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半導体ファウンドリー業界で、次世代先端工程の「線幅2ナノメートル」プロセスを用いた最先端半導体の量産競争が幕開けした。2ナノ半導体は世界でもまだ量産の成功例はないが、台湾積体電路製造(TSMC)、サムスン電子、Rapid »

ファーウェイの最新スマホ、米対中規制の7ナノチップ搭載か

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中国の通信機器大手、華為通信(広東省深セン市、ファーウェイ)の新型スマートフォン「Mate 60 Pro」に搭載されたシステムオンチップ(SoC)「麒麟Kirin 9000S」は、中国製で回線路幅14ナノメートル(nm) »

ASMLのハイエンド液浸ArF露光装置、一部を中国輸出認可

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破産申請の時代芯存半導体、1.43億元でASMLの中古リソグラフィー装置を競売

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蘭ASML、「中国仕様の半導体露光装置はない」=中国メディア

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中国、オランダからの半導体製造設備の輸入が66%増 日本からの代替か

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