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中国、EUV露光装置を開発中か 華為の余承東氏が明らかにした半導体の「二つの突破口」

2026/10/8

中国通信機器大手の華為技術(ファーウェイ、広東省深セン市)の余承東氏は6日、EUV(極端紫外線)リソグラフィー(露光)装置が先端半導体の製造に不可欠な設備であり、中国は現在、その開発を進めていると明らかにした。一方、現段階では、中国国内の半導体産業は主にDUV(深紫外線)露光技術に依存しているという。

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