EUV露光装置が中国に流入か、ASMLが米国の指摘に強硬反論

（2026/6/21 23:40）

19日付米ブルームバーグが独占報道し、複数の米政府高官が、オランダの露光装置大手ASML（エーエスエムエル）のEUV（極端紫外線）露光装置1台、またはその主要コア部品が規制を迂回して中国に流入した疑いがあるとする証拠を米側が掴んでいると対外的に示唆したと伝えた。ハワード・ラトニック米商務長官は今年4月の非公開会談において、ASMLのCEOクリストフ・フケ氏に直接警告を発し、コンプライアンス上の問題について自主調査を求めていたという。

なお前提として確認しておくと、EUVは世界で唯一7nm以下の高端チップを製造できる装置であり、米国とオランダはすでにASMLによる対中輸出を厳禁する禁令を施行している。一方、成熟プロセス向けに使用されるDUV（深紫外線）露光装置は合規的に調達可能であり、両者の管理基準は全く異なる。

突然の指摘に対し、ASMLは即座に全面否定し、極めて強硬な姿勢を示した。同社の公式声明は「いかなるEUV完成品、専用コアモジュール、関連設備も中国に引き渡したことは一切ない」と明確に述べた。同社はさらに潔白を証明する文書を提出し、世界に現存する稼働中のEUV314台と退役済みの26台について完全な台帳が存在し、全工程で追跡・位置確認が可能であり、中国国内にEUV露光装置は1台も存在しないと主張した。

多くの人が疑問に思うのは、重量100〜180トン、部品点数10万個超の巨大装置をどうやって密かに転送できるのかという点だ。ASMLの反論の論理はこうだ。EUVはスクールバスに匹敵する体積を持ち、輸送・設置・長期保守のすべてにメーカーのエンジニアが必要であり、複数国の税関やサプライチェーンの各段階で痕跡が残る。密輸を隠蔽できる可能性は存在しない。また、すべての装置にはシリアル番号による追跡システムが搭載されており、いつでもリモートで状態を確認できる。

最も重要な矛盾点は、米側が関連証拠を保有すると繰り返し主張しながら、情報の機密性を理由に、ASML、メディア、オランダ政府のいずれに対しても実物・物流書類などの証拠を一切提示しようとしていないことだ。

また、オランダ政府も同時に声明を発表し、自国の輸出許可制度は厳格であり、現時点で違反輸出の記録は確認されていないと表明した。

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