韓国SKハイニックス、ASMLのHighNA EUV装置の導入を検討か

韓国半導体最大手のSKハイニックスが、次世代メモリーチップの生産にオランダの半導体製造装置メーカーASMLの商用High NA(高開口数)極端紫外線(EUV)リソグラフィー装置の使用を検討しているもようだ。14日付ロイター通信が伝えた。

報道によると、SKハイニックスのSeon-yong Cha(チャ・ソンヨン)最高技術責任者(CTO)は14日、オランダで開かれたASMLのイベントで、事前に録画したビデオを通じて、世界で最も高価なチップ製造装置の導入を検討していると述べたという。

同装置は4億米ドル(約618億4000万円)と高価だが、半導体受託生産(ファウンドリー)世界大手の台湾積体電路製造(TSMC、台積電)と米Intel(インテル)が発注したとされている。海外メディアが引用した情報筋によると、TSMCが発注したHigh-NA EUV装置の第一陣が年内に台湾に到着するという。

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