Tag Archive

韓国YC CHEM、EUV用リンス液製品が半導体製造ラインでの量産試験

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米インテル、初の商業用高NA EUV露光装置を設置

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ASMLの第1四半期、売上の49%が中国本土市場から

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ASML、第1四半期の売上高は53億ユーロ

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米のAIチップ輸出規制強化、マカオなどへの輸出も禁止

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華為、多重露光による「5ナノ製造法」特許出願

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中国の知的財産担当の中国国家知識産権局は3月27日、中国通信機器大手の華為技術(ファーウェイ)が出願した複数の特許の内容を公開した。そのうちの1つは、最先端の極端紫外線(EUV)露光装置を使わなくても、5ナノメートル(n »

ASML、ハイパーNAリソグラフィー開発に着手 36年に0.2nmプロセス実現へ

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オランダの半導体製造装置大手、ASMLがすでにハイパーNAEUV(極端紫外線)リソグラフィー装置の開発を検討しているもようだ。 »

ASMLの新EUV、TSMCとサムスンが導入か 26年に設置予想

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SMICが5ナノ半導体生産へ 華為の次世代プロセッサに対応

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米フィナンシャル・タイムズによると、中国の半導体最大手の中芯国際集成電路製造(SMIC)が、回線路幅5ナノメートル(nm)の半導体を製造する最先端工場を建設する計画を進めている。通信機器大手の華為技術(ファーウェイ)が設 »

ASML、輸出規制で24年は中国売上高最大15%影響も

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オランダの半導体製造装置大手、ASMLホールディングのロジャー・ダッセン最高財務責任者(COO)は、24日の業績発表会見で、オランダと米国が新たに発表した高性能の半導体製造装置の輸出禁止措置が発効すれば、2024年の中国 »

SKハイニックス、中国工場の技術改良計画 米の対中輸出規制に対応

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韓国半導体大手のSKハイニックスが、米国の対中国EUV(極端紫外線)露光装置輸出規制への対応策として、中国半導体工場の技術改良を準備しているもようだ。 »

TSMC、ASML製EUV露光装置10台の調達計画を棚上げ=台湾メディア

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台湾のメディアがこのほど、台湾の半導体受託製造大手である台湾積体電路製造(台積電・TSMC)がオランダの半導体製造装置メーカー、ASMLホールディングからEUV(極端紫外線)露光装置10台を購入する計画を棚上げしたと報じ »

ASML、中国へのハイエンドDUV輸出を撤回 米国の要請受け

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オランダの半導体露光装置大手、ASMLは1日、同社の先端深紫外(DUV)露光装置の輸出ライセンスの一部がオランダ政府から取り消されたと公式サイトで発表した。バイデン米政権の要請を受けた緊急の対応とみられる。 »

中国の蘭製リソグラフィー装置輸入額、11月は前年同月の11倍

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香港の英字紙『サウスチャイナモーニングポスト』の報道によると、中国が2023年11月にオランダから輸入した半導体露光(リソグラフィー)装置の総額は前年同月の11倍に急増した。 »

ASML初の2nm露光装置、インテルに正式納入

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ASMLとサムスン、韓国にEUV研究センター設立

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韓チェムトロニクス、170億ウォン投資でEUV露光装置材料の生産拡大

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米の対中半導体規制、チップの「性能密度」を追加

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米政府、中国への半導体規制の「抜け穴」を塞ぐ

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米商務省の産業安全保障局(BIS)は現地時間17日、中国の半導体チップと半導体製造装置に関する新たな輸出管理規則を発表した。チップの性能密度を制限項目に追加。マカオなど22の国も輸出規制の対象にし、第三国を迂回した調達を »

ファーウェイの最新スマホ、米対中規制の7ナノチップ搭載か

By AAiT 管理者

中国の通信機器大手、華為通信(広東省深セン市、ファーウェイ)の新型スマートフォン「Mate 60 Pro」に搭載されたシステムオンチップ(SoC)「麒麟Kirin 9000S」は、中国製で回線路幅14ナノメートル(nm) »