Tag Archive

米インテル、ASMLの最新鋭リソグラフィー装置2台の設置完了

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »

中国政府、8nmプロセス以下のDUV装置の開発推進

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »

芯碁微装、パワー半導体向け直描式露光装置を日本に輸出

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »

韓国GIGALANE、江蘇省に半導体エッチング装置工場建設へ

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »

上海図双精密装備、浙江省に50億元投じフォトリソグラフィー改修工場建設へ

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »

半導体製造装置の芯源微電子設備、23年の純利益は25%増 

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »

ASML、ハイパーNAリソグラフィー開発に着手 36年に0.2nmプロセス実現へ

By AAiT 管理者

オランダの半導体製造装置大手、ASMLがすでにハイパーNAEUV(極端紫外線)リソグラフィー装置の開発を検討しているもようだ。 »

半導体露光装置の上海微電子、IPOで微細化装置の開発加速へ

By AAiT 管理者

半導体露光(リソグラフィー)装置の中国最大手、上海微電子装備(SMEE、上海市)が新規株式公開(IPO)を目指している。米国、日本、オランダによる先端半導体の輸出規制が強化される中、IPOによる資金調達などで半導体製造装 »

ロシアが先端技術分野に投資、リソグラフィー装置内製化へ

By AAiT 管理者

ロシアが欧米に対抗し、今後の経済安全保障の鍵を握る先端技術分野への投資を拡大している。最先端の半導体チップの製造で重要な役割を担うリソグラフィー装置の内製化を目指すほか、2030年までに10台の国産スーパーコンピューター »

破産申請の時代芯存半導体、1.43億元でASMLの中古リソグラフィー装置を競売

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »

蘭ASML、「中国仕様の半導体露光装置はない」=中国メディア

By AAiT 管理者

記事は有料サービスご契約者限定です。今なら無料トライアル会員に登録すると、2週間無料で閲覧できます。無料トライアル契約されている方は以下からログインください。会員ログイン »