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半導体製造装置の芯源微電子設備、23年の純利益は25%増
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ASML、ハイパーNAリソグラフィー開発に着手 36年に0.2nmプロセス実現へ
オランダの半導体製造装置大手、ASMLがすでにハイパーNAEUV(極端紫外線)リソグラフィー装置の開発を検討しているもようだ。 »
半導体露光装置の上海微電子、IPOで微細化装置の開発加速へ
半導体露光(リソグラフィー)装置の中国最大手、上海微電子装備(SMEE、上海市)が新規株式公開(IPO)を目指している。米国、日本、オランダによる先端半導体の輸出規制が強化される中、IPOによる資金調達などで半導体製造装 »
ロシアが先端技術分野に投資、リソグラフィー装置内製化へ
ロシアが欧米に対抗し、今後の経済安全保障の鍵を握る先端技術分野への投資を拡大している。最先端の半導体チップの製造で重要な役割を担うリソグラフィー装置の内製化を目指すほか、2030年までに10台の国産スーパーコンピューター »
破産申請の時代芯存半導体、1.43億元でASMLの中古リソグラフィー装置を競売
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蘭ASML、「中国仕様の半導体露光装置はない」=中国メディア
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