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半導体露光装置の上海微電子、IPOで微細化装置の開発加速へ
半導体露光（リソグラフィー）装置の中国最大手、上海微電子装備（SMEE、上海市）が新規株式公開（IPO）を目指している。米国、日本、オランダによる先端半導体の輸出規制が強化される中、IPOによる資金調達などで半導体製造装置の開発が加速するとみられる。
SMEEは2017年12月、中信建投証券とプレリスティング・チュートリングの契約を締結した。当初は5カ月間のプレリスティング・チュートリング期間を想定していたが、進ちょくは遅延しているようだ。中信建投証券のリポートによると、財務の規範性の面で改善が必要なほか、調達資金の用途の特定や調達規模の試算がまだ終わっていない。
SMEEは2002年3月の設立。中国で唯一ともいわれる露光装置メーカーで、中国の半導体戦略において重要なポジションにある。同社の発表によれば、後工程向け先端露光装置のシェアは、世界市場で37％、中国市場で85％を掌握している。
2022年２月には中国製としては初となる2.5D/3D実装向け露光装置を製品化し、顧客に納入した。すでにArF光源を使用した90ナノメートル（nm）リソグラフィー装置「SSA600/20」の量産準備が整ったとされるほか、28nmプロセスのArF液浸露光装置「SSA/800-10W」も2023年末にリリースされると噂されている。
