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中国政府、8nmプロセス以下のDUV装置の開発推進
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韓サムスン、ASMLの高NAEUV導入計画を削減へ
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芯碁微装、パワー半導体向け直描式露光装置を日本に輸出
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京華激光、光学プレート製造向けフォトリソグラフィ装置を開発
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ASMLの第1四半期、売上の49%が中国本土市場から
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ASML、中国へのハイエンドDUV輸出を撤回 米国の要請受け
オランダの半導体露光装置大手、ASMLは1日、同社の先端深紫外(DUV)露光装置の輸出ライセンスの一部がオランダ政府から取り消されたと公式サイトで発表した。バイデン米政権の要請を受けた緊急の対応とみられる。 »
ASML初の2nm露光装置、インテルに正式納入
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韓チェムトロニクス、170億ウォン投資でEUV露光装置材料の生産拡大
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半導体露光装置の上海微電子、IPOで微細化装置の開発加速へ
半導体露光(リソグラフィー)装置の中国最大手、上海微電子装備(SMEE、上海市)が新規株式公開(IPO)を目指している。米国、日本、オランダによる先端半導体の輸出規制が強化される中、IPOによる資金調達などで半導体製造装 »
8月の中国半導体売上高2%増、オランダから先進設備輸入
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