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中国、半導体フォトレジスト用保存容器を国産化
中国工業・情報化部の党組書記兼部長は12日、中国中央電視台（CCTV）のインタビューで、フォトレジストを保存するガラス容器の国産化が実現したと明らかにした。すでに生産ラインで試験使用され、反応は良好だという。中国が半導体の内製化を強化する事例として注目されている。
フォトレジスト用のガラス容器は、半導体産業において目立たないが極めて重要な「急所」とされる。フォトレジストは「半導体産業の血液」とも呼ばれ、保存容器には原子レベルに迫る厳格な要件が求められる。
ただフォトレジストには致命的な弱点が二つある。第一に紫外線に極めて弱い点だ。使用前に紫外線にさらされると、感光フィルムのように性能を失ってしまう。そのため、保存容器は紫外線を完全に遮断する必要がある。残量を目視で確認する必要があるため、不透明な容器は使えず、琥珀色などの半透明容器が求められる。単に着色すればよいわけではなく、紫外線の遮断性能や、内壁の化学的な不活性処理（フォトレジストが付着しにくい処理）も不可欠だ。
第二に汚染への弱さである。フォトレジストが許容できる不純物のレベルは極めて低く、場合によっては10億分の1、さらには1兆分の1の水準に達する。微粒子の直径は髪の毛の500分の1から900分の1以下でなければならず、半導体プロセスが先端化するほど純度要求は厳しくなる。一般的なガラス容器では微量の金属イオンが溶出し、ウェハー全体を不良にする恐れがある。
さらに密封性の要求も極端に高い。瓶口の誤差は±0.01ミリ以内に抑える必要があり、パッキン材料から可塑剤が放出されてはならない。輸送中は完全な密閉性を保ちつつ、摩擦による微粒子の発生も防ぐ必要があるのだ。
中国は長年にわたり、フォトレジスト用ガラス容器をほぼ100％、日本やドイツなどの外資企業に依存してきた。中国が自国でフォトレジストの開発に成功した後も、「レジストはあるが容器がない」という状況に直面し、産業チェーンへの本格参入を阻まれてきた。
この分野は技術的難易度が高いだけでなく、市場規模が限られている点も課題だった。世界市場が小さいため、仮に開発に成功しても価格下落が早く、投資回収が難しい。このため、国内大手企業は長らく参入に消極的だった。
しかし、米中半導体競争で関連材料などの輸出規制が強まる中、中国は「どれほど地味で利益が薄くても、自前で作れなければならない」と判断した。
